أعلنت شركة إنتل عن سبق جديد في تاريخ الشركة أصبحت بموجبه أول شركة تبلغ منعطفاً مهماً في سياق تطوير تقنية 45 نانومتر لوجيك.
فقد نجحت إنتل في إنتاج ما يعتقد أنها أول رقاقة (ذاكرة الوصول العشوائي الساكنة) ذات الوظائفية الكاملة، وذلك بواسطة تقنية عمليات 45 نانومتر، وهي تقنية من الجيل التالي تابعة للشركة ومستخدمة لتصنيع أشباه الموصلات بأعداد كبيرة.
وبلوغ إنتل هذه المحطة التاريخية يعني أنها قد أحرزت تقدماً كبيراً في تطوير هذه التقنية، ما يؤهلها للبدء بتصنيع الرقاقات بواسطة هذه التقنية في العام 2007 وباستخدام الحلقات الرقاقية بحجم 300 مم.
وبهذا، تواصل الشركة جهودها لتوسعة حدود قانون مور بإطلاقها جيل جديد من عمليات التصنيع كل سنتين.وقال بيل هولت، نائب الرئيس والمدير العام لمجموعة إنتل للتكنولوجيا والتصنيع، معلقاً على هذا الإنجاز التاريخي:
»إن نجاحنا في أن نكون أول شركة تستخدم تقنية 65 نانومتر للتصنيع بأعداد كبيرة وأول شركة تنتج رقاقة 45 نانومتر تعمل بالكامل لهو خير برهان على موقع إنتل الرائد في مجال تصنيع الرقاقات.
ولإنتل تاريخ طويل في تحويل التطورات التقنية العملاقة إلى فوائد ملموسة يُقدرها الناس. وستوفر تقنيتنا من نوع 45 نانومتر القاعدة الأساسية لتطوير أجهزة كمبيوتر تتسم بأداء أعلى في الواط الواحد والتي من شأنها أن تُحسّن تجربة المستخدمين«.
وستسمح تقنية 45 نانومتر بإنتاج رقاقات يقل معدل تسريبها للكهرباء خمس مرات عن المعدلات السائدة في الرقاقات الحالية. وهذا سيؤدي إلى إطالة عمر البطارية في الأجهزة المتنقلة وإلى زيادة فرص تصنيع منصات أصغر وأقوى.
تضم تقنية 45 نانومتر لذاكرة الوصول العشوائي الساكنة أكثر من مليار ترانزيستور.
وبالرغم من أنها ليست مطورة كمنتج خاص بإنتل، إلا أنها تبرهن على الأداء التقني وعلى قدرات العمليات على الإنتاج وعلى موثوقية الرقاقات قبل عمليات تصنيع المعالجات والرقاقات المنطقية الأخرى بواسطة عملية تصنيع 45 نانومتر. وهي في الواقع خطوة أولى مهمة نحو تصنيع أكثر الأجهزة تعقيداً في العالم بأعداد كبيرة.